Txina NIR Plan Apo 50X/0.67 – Infinitu Zuzendutako Metalurgia Objektibo Siliziozko Irudi eta Zuntz Laser Prozesuen Monitorizaziorako Fabrikazioa eta Fabrika

NIR Plan Apo 50X/0.67 – Infinituan Zuzendutako Objektibo Metalurgikoa Siliziozko Irudigintzarako eta Zuntz Laser Prozesuen Monitorizaziorako

NIR Plan Apo 50X/0.67 mikroskopio apokromatikorako objektibo fingabe zuzendua da, infragorri hurbileko (NIR) aplikazioetarako bereziki optimizatua. 0,67ko irekidura numerikoarekin (NA) eta 10 mm-ko lan-distantziarekin (WD), bereizmen apartekoa (0,5 µm) eta NIR transmisio bikaina eskaintzen ditu 380-700 nm-ko tarte ikusgaian, baita 1064 nm-ko uhin-luzera kritikoan ere; beraz, aproposa da siliziozko oblearen atzealdeko ikuskapenerako, silizio bidezko metrologiarako (TSV) eta zuntz laser bidezko prozesamenduaren denbora errealeko monitorizaziorako.

Zehaztapen nagusiak:

Handitzea: 50X
Zenbakizko irekidura (NA): 0,67
Laneko distantzia (WD): 10 mm
Foku-distantzia: 4 mm
Bereizmena: 0,5 µm
Eremu-sakonera (±DF): 0,75 µm
Ikus-eremu maximoa: 0,5 mm
Pisua: 430 g
Diseinu optikoa: Infinitu zuzendua, plan apokromatikoa (APO)
Laneko uhin-luzera: 380–700 nm eta 1064 nm
Murgiltze-euskarria: Airea

Bidali mezu elektroniko bat guregana

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Aplikazio tipikoak:

Erdieroaleen ikuskapena– Atzeko aldearen oblearen ikuskapena, TSV (silizio bidezko bidea) neurketa, akatsen berrikuspena laser bidezko dadoen ondoren

Akatsen analisia– Siliziozko substratuen bidezko irudi ez-suntsitzaileak lurperatutako egiturak ikuskatzeko

Laser bidezko prozesamendua– 1064 nm-ko zuntz laser bidezko ablazioaren, zulaketaren edo soldaduraren denbora errealeko behaketa materialen zientzian eta fabrikazioan

Metalurgia eta materialen zientzia– Laser bidezko beroak eragindako eremuen, birmoldatutako geruzen eta mikroegituren bereizmen handiko ikuskapena

NIR fluoreszentzia mikroskopia– Infragorri hurbileko kitzikapena behar duten lagin biologiko edo materialen kasuan